Ausgeschrieben wird eine Elektronenstrahllithograffieanlage die ein Kernstück der gruppenübergreifenden Infrastruktur im Reinraum der Universität Paderborn ist. Diese wird zur Entwicklung von waferskaligen Bauelementen benötigt, die große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 8 Zoll), die Strukturgröße und die Strukturhomogenität stellt.
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